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几种真空镀膜技术
  添加时间:2011-3-7 浏览次数:24078   
蒸发镀膜设备与技术 真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜(镀铝、铬、锡、不锈钢等金属)、七彩膜仿金膜等,从而获得光亮、美观、价廉的塑料,陶瓷表面金属化制品。广泛应用于工艺美术、装璜装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、女式鞋后跟等领域, JTPZ多功能镀膜技术及设备(加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机),针对汽车、摩托车灯具而设计的,在一个真空室内完成蒸发镀铝和射频等离子体镀保护膜,这种镀膜后灯具具有“三防”功能。射频等离子体聚合膜还应用于光学产品、磁记录介质、军事国防保护膜;防潮增透膜;防锈抗腐蚀;耐磨增硬膜。 用户选择在灯具基体上喷底漆、镀铝膜、镀保护膜或灯具基体在真空室进行前处理(不喷底漆)、镀铝膜、镀保护膜工艺。 在ABS,PC,PBT,PE,PP,PA66等塑料基体上直接镀膜,不需喷底漆,也不需喷面漆(不需要投资喷涂设备),在镀完铝膜后直接镀一层保护膜。滴1%NaOH溶液10分钟铝层不腐蚀,去离子水中浸饱96小时铝层不脱落。 磁控溅射镀膜设备及技术 a旋转磁控溅射镀膜机;旋转磁控溅射镀膜技术,是国内外最先进的磁控溅射镀膜技术,靶材利用率达到70~80%以上,基体镀膜均匀,色泽一致。 b平面磁控溅射镀膜机; c中频磁控溅射镀膜机; d射频磁控溅射镀膜机。 可以在金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷)的工件镀金属铝、铜、钛金、锆、银、不锈钢、镍、钼、硅、钛铝及金属反应物(氧化物、氮化物、炭化物)、半导体金属及反应物。所镀膜层均匀、致密、附着力好等特点。 多弧离子镀膜设备及技术 该技术在各种金属和非金属表面上,如不锈钢、铝合金、铜、铁以及陶瓷、玻璃等涂镀各种金属、非金属及其化合物的膜层和复合膜层,如Ti、Zr、TiN、TiC、TiO2、ZrN、ZrC|、ZrO等,产生耐磨、耐蚀、耐用的各种颜色装饰效果:如金色系列、彩色系列、黑色系列等等可广泛用于建筑、家具、机械工模具等行业。 等离子扩渗镀膜设备及技术 离子渗氮:可以在辉光放电条件下,将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性,相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控,可用于各种钢铁及钛合金结构件,各种模具和各种不锈钢制品。 等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮,氮碳共渗) 等离子体化学气相沉积(PCVD)是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内,加入适当比例的不同工作气体,在脉冲电压的作用下,通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下,可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等,显微硬度高达HV2000--2500。与CVD和PVD相比,PCVD技术可实现离子渗氮、渗碳和镀膜在同一炉内依次进行,高效率地实现渗透复合工艺。该设备适用于要求提高表面耐磨损、耐腐蚀、抗高温氧化、抗疲劳的零部件和工模具。被处理材料主要包括:高速钢、冷热钢、冷热模具钢、结构钢、不锈钢、钛合金、硬质合金等
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